Introdução: A incorporação de antimicrobianos pode ser uma alternativa para o desenvolvimento de materiais odontológicos com propriedades antimicrobianas, desejáveis para tratamento de afecções orais. Objetivos: Avaliar a atividade antimicrobiana, dureza e resistência ao impacto de resinas auto (RAA) e termo polimerizável (RAT) incorporadas com vanadato de prata (β-AgVO3) e tungstato de prata (α-Ag2WO4) nas concentrações 0%, 0,5%, 1% e 3%. Material e método ou Conduta Clínica: Foi determinada concentração inibitória mínima (CIM) dos semicondutores frente à S. mutans e C. albicans. Os semicondutores foram adicionados em massa ao pó das resinas para confecção dos espécimes: 6 x 10 mm para atividade antimicrobiana e 9x2 mm para dureza e 65x10x3,3 mm para resistência ao impacto. Os biofilmes de S. mutans e C. albicans (n=8) foram formados por 48h nos espécimes e o UFC/mL foi contado. A dureza Knoop, n=10 foi realizada com carga de 25gf /5s. A resistência ao impacto Izod foi realizada com pêndulo de 2J, n=10. Para análise estatística foi aplicada ANOVA e bonferroni (p>0,05) e análise qualitativa para CIM. Resultados: A CIM do α-Ag2WO4 frente à C. albicans e S. mutans foi melhor comparada ao β-AgVO3. Para a UFC, a incorporação de α-Ag2WO4 não apresentou eficácia para ambas resinas, e para a β-AgVO3 o grupo 3% promoveu redução da UFC de S. mutans para ambas as resinas. Para C. albicans a RAA 3% apresentou redução da UFC. Para dureza, observou-se igualdade estatística para todos os grupos RAA. Para RAT, 3% β-AgVO3 e 1% e 3% α-Ag2WO4 apresentaram redução da dureza (p=0,014). Para resistência ao impacto, 3% β-AgVO3 da RAA apresentou redução da resistência ao impacto e para RAT os grupos com incorporação dos semincondutores reduziu a resistência ao impacto conforme aumentava a concentração. Conclusão: A incorporação do β-AgVO3 promoveu atividade antimicrobiana. As resinas apresentaram redução das propriedades mecânicas com a incorporação da maior concentração avaliada de ambos os semicondutores.