Revista de Odontologia da UNESP
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Revista de Odontologia da UNESP
Congress Abstract

Síntese, caracterização e concentração inibitória mínima do óxido de grafeno e óxido de grafeno reduzido

Beatriz Danieletto SAHM, Izabela FERREIRA, Jean Valdir UCHÔA, Paulo Noronha LISBOA FILHO, Andréa Cândido dos REIS

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Resumo

Introdução: O aumento de doenças infecciosas mediadas por bactérias bucais têm sido uma das ameaças mais potenciais à saúde humana. Com o advento da nanotecnologia, pesquisadores buscam incorporar nanomateriais com potencial antimicrobiano à materiais odontológicos, a fim de controlar a colonização de microrganismos e reduzir mundialmente doenças causadas por bactérias da cavidade oral. Objetivos: O objetivo deste estudo foi sintetizar e caracterizar nanomateriais comoóxido de grafeno (OG) e óxido de grafeno reduzido (OGr) e avaliar a concentração inibitória mínima (CIM) dos mesmos frente à quatro microrganismos. Material e método ou Conduta Clínica: A síntese dos nanomateriais foi realizadapelo método de Hummers modificado e a redução do OGr foi dada pelo método daadição de glicose. A caracterização foi realizada por Espectroscopia no infravermelho por transformada de Fourier (FTIR) e Espectroscopia por UV/Visível. Resultados: Foi determinada a CIM dos nanomateriais frente aos microrganismosStaphylococcus aureus, Streptococcus mutans, Candida albicans e Pseudomonas aeruginosa. A caracterização do material por FTIR indicou a presença de oxigênio (OH) e por UV/Visível, a presença de ligações de carbono (C-C) e a efetividade daredução do OGr. A CIM de 80mg/mL dos nanomateriais foi efetiva apenas para OGfrente aos microrganismos avaliados. Conclusão: Concluiu-se que a síntese pelo método de Hummers modificado foi efetiva para produção de OG e OGr e somente o OG apresentou atividade antimicrobiana frente à Staphylococcus aureus, Streptococcus mutans, Candida albicans e Pseudomonas aeruginosa.

Palavras-chave

Nanomateriais; óxido de grafeno; óxido de grafeno reduzido.
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